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光阻法颗粒计数仪

产品简介

Acona LE Mini光阻法颗粒计数仪是一款面向CMP工艺液的在线颗粒计数器,基于SPOS单颗粒计数原理,支持过滤前后及输送末端的实时监测,提供大颗粒数量(LPC)趋势与阈值统计,助力过滤优化、异常预警及放行决策,适用于CMP slurry生产、输送与晶圆制造场景,提升过程控制精度与设备利用率。

产品型号:Acona LE Mini
更新时间:2026-04-23
厂商性质:生产厂家
访问量:19
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Acona LE Mini光阻法颗粒计数仪是一款面向CMP工艺液的在线颗粒计数器,基于SPOS单颗粒计数原理,支持过滤前后及输送末端的实时监测,提供大颗粒数量(LPC)趋势与阈值统计,助力过滤优化、异常预警及放行决策,适用于CMP slurry生产、输送与晶圆制造场景,提升过程控制精度与设备利用率。

Acona LE Mini光阻法颗粒计数仪在CMP工艺中,LPC(LargeParticleCount,大颗粒数量)常用于表征尾端大颗粒风险。LEMini支持在过滤前/过滤后/输送末端等关键节点进行在线监测,为过滤优化、异常预警与放行决策提供数据支撑。  

【适用对象与场景】  

CMPslurry生产商:出厂质量控制、批间一致性、储存/混配过程监控。  

SDS(SlurryDeliverySystem)集成商:输送系统在线质量监测、报警联动、维护窗口优化。  

晶圆厂CMP产线:POU端放行前监测、过滤器更换(filterchangeouts)评估、异常追溯。  

【POU在线颗粒计数器部署建议】  

POU的目标不是“做一次检测",而是让数据直接服务于过程控制。典型部署点位包括:  

过滤前:建立来料与混配后基线,识别上游波动对LPC的影响。  

过滤后:验证过滤效果与过滤器状态,形成更换前后的特征曲线。  

SDS输送末端(Tool端):监控输送链路对尾端大颗粒(LPC)的影响,捕捉末端异常。

光阻法颗粒计数仪

图1CMPslurry在储存-混合-输送-过滤-POU节点的旁路在线监测示意  

【核心技术与系统设计】  

1SPOS单颗粒计数  

采用SPOS(光阻/光消减)逐颗粒计数机制,输出可用于过程控制的粒径分布与阈值统计结果,面向CMPslurry的尾端大颗粒风险(LPC)提供可量化的数据依据。  

2在线稳定性设计  

面向在线连续或定时采样使用需求,可按工况选配稳流、回压、脱泡、保护过滤与冲洗等组件,用于降低气泡/波动对趋势数据的影响,并提升长期运行的可维护性与可重复性。  

3模块化旁路流路  

旁路取样——检测——回流/排放路径可配置,便于匹配不同现场管路与工艺窗口。对于高价值slurry,在不改变主流程的前提下完成在线颗粒监测与风险前移。  

4集成与联动  

提供通讯与报警接口(按配置),用于对接SDS系统或上位机,实现在线数据归档、超限预警与维护事件关联分析。  

常见问题|FAQ  

Q1:POU适合放在哪些位置?  

A:通常部署在过滤前/过滤后、混配后、SDS输送末端(Tool端)等POU节点,用于在线观察CMPslurry的LPC趋势与阈值统计。  

Q2:CMPslurry的LPC指什么?  

A:LPC(LargeParticleCount)通常指超过某一阈值粒径的大颗粒数量(如>0.5um、>1um、>5um等,按内控定义)。在CMP工艺中,LPC的异常上升常与划痕风险、过滤状态与输送工况相关。  

Q3:在线数据可以用于什么决策?  

A:用于过滤器更换(filterchangeouts)优化、SDS工况调整、异常批次隔离、以及POU放行判定的趋势依据。  

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