产品简介

Acona LE Mini是一款面向CMP工艺液的在线颗粒计数器，基于SPOS单颗粒计数原理，支持过滤前后及输送末端的实时监测，提供大颗粒数量（LPC）趋势与阈值统计，助力过滤优化、异常预警及放行决策，适用于CMP slurry生产、输送与晶圆制造场景，提升过程控制精度与设备利用率。

Acona LE Mini 面向 POU（Point of Use）的在线颗粒计数器，针对 CMP slurry（研磨液） 等高价值工艺液的颗粒风险控制需求，提高过滤器的利用率，提高过滤器的使用寿命，减少宕机时间。 基于 SPOS单颗粒计数原理，提供可用于过程控制的颗粒趋势与阈值统计结果。

在 CMP 工艺中，LPC（Large Particle Count，大颗粒数量） 常用于表征尾端大颗粒风险。 LE Mini 支持在过滤前/过滤后/输送末端等关键节点进行在线监测，为过滤优化、异常预警与放行决策提供数据支撑。

【适用对象与场景】

• CMP slurry 生产商：出厂质量控制、批间一致性、储存/混配过程监控。

• SDS（Slurry Delivery System）集成商：输送系统在线质量监测、报警联动、维护窗口优化。

• 晶圆厂 CMP 产线：POU 端放行前监测、过滤器更换（filter changeouts）评估、异常追溯。

【POU 在线颗粒计数器部署建议】

POU 的目标不是“做一次检测"，而是让数据直接服务于过程控制。典型部署点位包括：

• 过滤前：建立来料与混配后基线，识别上游波动对 LPC 的影响。

• 过滤后：验证过滤效果与过滤器状态，形成更换前后的特征曲线。

• SDS 输送末端（Tool 端）：监控输送链路对尾端大颗粒（LPC）的影响，捕捉末端异常。

图1 CMP slurry 在储存-混合-输送-过滤-POU 节点的旁路在线监测示意

【核心技术与系统设计】

1）SPOS 单颗粒计数

采用 SPOS（光阻/光消减）逐颗粒计数机制，输出可用于过程控制的粒径分布与阈值统计结果， 面向 CMP slurry 的尾端大颗粒风险（LPC）提供可量化的数据依据。

2）在线稳定性设计

面向在线连续或定时采样使用需求，可按工况选配稳流、回压、脱泡、保护过滤与冲洗等组件， 用于降低气泡/波动对趋势数据的影响，并提升长期运行的可维护性与可重复性。

3）模块化旁路流路

旁路取样——检测——回流/排放路径可配置，便于匹配不同现场管路与工艺窗口。对于高价值 slurry， 在不改变主流程的前提下完成在线颗粒监测与风险前移。

4）集成与联动

提供通讯与报警接口（按配置），用于对接 SDS 系统或上位机，实现在线数据归档、超限预警与维护事件关联分析。

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